Τα υλικά-στόχοι ταξινομούνται κυρίως ανάλογα με το υλικό σε μεταλλικούς στόχους (όπως χαλκός, αλουμίνιο και τιτάνιο), στόχους από κράμα (όπως χαλκό-κράματα μαγγανίου) και κεραμικούς στόχους (όπως οξείδιο του κασσιτέρου του ινδίου (ITO)).
Οι μεταλλικοί στόχοι αποτελούνται κυρίως από στοιχειώδη μέταλλα εξαιρετικά-υψηλής-καθαρότητας, όπως αλουμίνιο (Al), χαλκό (Cu), τιτάνιο (Ti) και ταντάλιο (Ta). Οι στόχοι αλουμινίου χρησιμοποιούνται για αγώγιμα στρώματα σε διαδικασίες άνω των 110 nm, ενώ οι στόχοι χαλκού για στρώματα διασύνδεσης σε προηγμένες διεργασίες κάτω των 110 nm λόγω της ανώτερης αγωγιμότητας τους. Στα στρώματα φραγμού, οι στόχοι τανταλίου αποτρέπουν αποτελεσματικά την ατομική διάχυση μετάλλου λόγω του υψηλού σημείου τήξης και της ισχυρής χημικής σταθερότητάς τους.
Στόχοι κράματος, όπως το νικέλιο-χρώμιο (NiCr) και το κοβάλτιο-βολφράμιο (CoW), χρησιμοποιούνται σε στρώματα επαφής ή συγκεκριμένα λειτουργικά στρώματα για τη βελτιστοποίηση της ειδικής αντίστασης και της θερμικής σταθερότητας των λεπτών υμενίων.
Οι στόχοι κεραμικών ενώσεων περιλαμβάνουν οξείδια (όπως οξείδιο του κασσιτέρου του ινδίου (ITO), πυριτίδια και καρβίδια. Χρησιμοποιούνται κυρίως σε στρώματα φραγμού (όπως το TaN) ή μονωτικά στρώματα για την πρόληψη της διάχυσης μετάλλων και τη βελτίωση της αξιοπιστίας της συσκευής. Οι διαδικασίες θα επιβάλλουν ακόμη πιο αυστηρές απαιτήσεις ποιότητας στόχου, οδηγώντας σε συνεχή καινοτομία και αναβαθμίσεις στην τεχνολογία-στόχο.
Ταξινόμηση στόχων διασκορπισμού
Ταξινόμηση ανά σχήμα: στρογγυλοί στόχοι, στόχοι πλάκας, στόχοι σωλήνων
Ταξινόμηση ανά χημική σύνθεση:
·Μεταλλικοί στόχοι (καθαρό μέταλλο αλουμίνιο, τιτάνιο, χαλκός, ταντάλιο κ.λπ.)
·Στόχοι κράματος (νικέλιο-κράμα χρωμίου, νικέλιο-κράμα κοβαλτίου κ.λπ.)
·Στόχοι κεραμικών ενώσεων (οξείδια, πυριτικά, καρβίδια, σουλφίδια κ.λπ.)
Ταξινόμηση ανά εφαρμογή: στόχοι τσιπ ημιαγωγών, στόχοι επίπεδων οθονών, στόχοι ηλιακών κυψελών, στόχοι αποθήκευσης πληροφοριών, στόχοι τροποποίησης εργαλείων, στόχοι ηλεκτρονικών συσκευών, άλλοι στόχοι
